| |
| Обозначение | ГОСТ Р 52250-2004 |
| Заглавие на русском языке | Материалы электронной техники. Резисты для литографических процессов. Общие технические условия |
| Заглавие на английском языке | Electronic engineering materials. Resists for lithography processes. General specifications |
| Дата введения в действие | 01.01.2005 |
| ОКС | 71.080.99 |
| Код ОКП | 249642 |
| Код КГС | Э10 |
| Аннотация (область применения) | Настоящий стандарт распространяется на резисты литографических процессов производства полупроводниковых приборов и интегральных микросхем |
| Ключевые слова |
резист; чувствительность к излучению; разрешающая способность; состав параметров; сохраняемость; испытания; приемка; |
| Термины и определения | Раздел стандарта |
| Вид стандарта | Стандарты на методы контроля |
| Вид требований | Документ имеет отметку * |
| Дескрипторы (английский язык) | electronic engineering materials, resists, lithography processes, specifications |
| Нормативные ссылки на: ГОСТ | ГОСТ 2.114-95;ГОСТ 12.1.005-88;ГОСТ 12.1.007-76;ГОСТ 12.1.014-84;ГОСТ 33-2000;ГОСТ 3885-73;ГОСТ 7376-89;ГОСТ 10028-81;ГОСТ 13841-95;ГОСТ 14192-96;ГОСТ 14870-77;ГОСТ 17622-72;ГОСТ 19433-88;ГОСТ 22001-87;ГОСТ 27025-86;ГОСТ Р 50766-95 |
| Документ внесен организацией СНГ | Госстандарт России |
| Управление Ростехрегулирования | 000 - Управление стандартизации |
| Технический комитет России | 303 - Изделия электронной техники, материалы и оборудование |
| Дата последнего издания | 02.07.2004 |
| Количество страниц (оригинала) | 31 |
| Организация - Разработчик | Открытое акционерное общество "Российский научно-исследовательский институт "Электронстандарт"; Федеральное государственное унитарное предприятие "22 Центральный научно-исследовательский испытательный институт Министерства обороны РФ" |
| Статус | Действует |
Скачать бесплатно "ГОСТ Р 52250-2004" в формате pdf 